钢研纳克ICP光谱仪源于钢铁研究总院,35年电感耦合等离子体光谱仪方法开发经验,数十项ICP标准的起草单位,重大科学仪器专项《ICP痕量分析仪器的研制》牵头单位,ICP光谱仪产品标准GB/T 36244-2018起草单位,懂ICP应用的国产ICP光谱仪制造商。央企，上市公司，品质之选！

钢研纳克双向观测Plasma 3000 ICP光谱仪分析性能：
检 出 限：亚 ppb- ppb 短期稳定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 长期稳定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）
光  源
自激式固态射频发生器，功率连续 1 瓦可调 震荡频率：27.12MHz
输出功率：700W-1600W 功率稳定性：< 0.1%
仪器规格
尺寸：宽 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重  量：约 180kg
光学系统
分析谱线范围：165-950nm
分  辨  率： 0.007nm@200nm 光室恒温：38℃ ±0.1℃
CCD 像素：1024x 1024
单像素面积：24μm x 24μm
工作环境
实验室湿度环境：相对湿度 20%~80% 氩气纯度：不小于 99.95%
排  风：不小于 400 立方米 / 小时
电  源：200V~240V AC 单相；50Hz~60Hz；4kVA

钢研纳克双向观测Plasma 3000 ICP光谱仪分光系统
Plasma 3000ICP光谱仪采用径向观测与轴向观测设计，适应亚ppm到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用CaF2棱镜，提高光路传输效率。 优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。 包围式立体控温系统，**光学系统长期稳定无漂移。
光源
固态射频发生器，稳定，体积小巧，效率高，匹配速度快，钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪能适应各种复杂基体样品及挥发性的测试，均能获得优异的长期稳定性。 垂直炬管的设计，具有更好的样品耐受性，减少了清洁需求，降低了备用炬管的消耗。 冷锥消除尾焰技术，地降低自吸效应和电离干扰，从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景，保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式，待机时降低输出功率，减小气体流量，仅维持等离子体运行，节约使用成本。
简洁的炬管安装定位设计，快速定位，的位置重现。 实时仪器运行参数，高性能CAN工业现场总线，**通讯可靠。
进样系统
简洁的炬管安装设计，自动定位炬管位置，的位置重现。钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪配备系列经过优化的进样系统，可用于、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸（HF） 等样品的测试。
使用可拆卸式或一体式炬管，易于维护，转换快速，使用成本低。Plasma 3000 ICP光谱仪使用质量流量控制器控制冷却气、气和载气的流量，**测试性能长期稳定。 多通道12滚轮蠕动泵，提升样品导入稳定性。
器
大面积背照式CCD器,全谱段响应，高紫外**化效率，抗饱和溢出，具有较宽的动态范 围和较快的信号处理速度。 一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，从而获得更为快速、准确的分析结果。Plasma 3000 ICP光谱仪具有同类产品中靶面尺寸，**像素，单像素面积24μm X 24μm，半导体制冷,制冷温 度 低，具有更低的噪声和更好的稳定性。
软件系统
人性化的界面设计，流畅易懂，简便易用，针对分析应用优化的软件系统，无须复杂的方法开发， 即可快速开展分析操作。
丰富的谱线库，智能提示潜在干扰元素，帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置，直观的测试结果显示。
安全防护
电磁屏蔽，减少电磁辐射 连锁门保护，避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗

由钢研纳克承担的国家重大科学仪器设备开发专项“ICP痕量分析仪器的研制与应用”取得重要进展。本专项开发内容包括二维全谱高分辨ICP光谱仪和ICP质谱仪。目**维全谱高分辨ICP光谱仪已解决了大面积CCD采集的瓶颈问题，接近于商品水平的产品样机将于年内完成；ICP质谱仪*二代研发样机已成功组装和调试，采集到正确的谱图，这一突破标志着在*二代样机上采用的自主设计的高真空系统、接口及离子传输系统以及射频发生器系统3个关键、难点技术已经实现原理克服。为高质量、按期完成项目任务和本单位新产品开发任务奠定了坚实的基础。
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单位注册资金单位注册资金人民币 1000 - 5000 万元。